6 月 15 日消息 今天，中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称“中微公司”)首台 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺利付运客户生产线。
Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研发的新一代 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备。基于已被业界广泛认可的 12 英寸 CCP 刻蚀设备的成熟工艺与特性，Primo AD-RIE 200 在技术创新和生产效率方面都有了进一步提升，能够满足不同客户 8 英寸晶圆的加工需求。
为提高生产效率，Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵活配置多达三个双反应台反应腔(即六个反应台)。此外，Primo AD-RIE 200 提供了可升级至 12 英寸刻蚀设备系统的灵活解决方案，以满足客户生产线未来可能扩产的需求。
