10nm及更先进的制程工艺，目前只有Intel、台积电和三星实现了量产。
日前，Digitimes整理了三大晶圆厂在10nm、7nm、5nm、3nm、2nm的技术指标演进对比图，这里使用的是晶体管密度(每平方毫米晶体管数量)。
10nm时代，Intel做到了每平方毫米1.06亿颗晶体管，是台积电和三星的两倍。
7nm时代，Intel预估可以做到每平方毫米1.8亿颗晶体管，台积电9700万颗/平方毫米、三星9500万颗/平方毫米。
5nm时代，Intel预估可以做到每平方毫米3亿颗晶体管，台积电1.73亿颗/平方毫米、三星1.27亿颗/平方毫米。
这样来看的话，Intel的10nm相当于台积电/三星7nm、Intel 7nm相当于台积电/三星5nm的说法有一定道理。
不过，从5nm可以明显看出，在晶体管密度上，三星已经明显落后。
放眼3nm，台积电大概可以做到2.9亿颗/平方毫米，三星可以做到1.7亿颗/平方毫米，三星的指标甚至连Intel 7nm都不如。
