8 月 20 日消息 根据外媒 BusinessKorea 消息，三星电子和 SK 海力士正在研究使用多种韩国产半导体制造相关的材料、设备，以取代进口产品。这是为了减少供应链风险，保证自家半导体工厂的正常生产。
三星电子正在测试一家韩国厂商的 EUV 光刻胶样品，有消息称三星将在今年下半年开始使用这种光刻胶，用于其 14nm 工艺 DRAM 生产。EUV 光刻胶是半导体芯片生产的核心材料，用于曝光工艺。目前在此类产品全球市场中，日本产品市场份额达到 90% 以上，构成垄断地位。由于日本已经限制向韩国出口 EUV 光刻胶 2 年多，因此三星电子正努力寻找更可靠的本土光刻胶供应商。
SK 海力士方面，目前正在与韩国氢氟酸制造商 RAM Technology 进行合作，以减少对进口产品的依赖。目前，SK 海力士已经在韩国和中国的芯片工厂使用韩国产 HF 氢氟酸。
据了解，如今中国企业也在努力研发，以求逐步摆脱对于进口芯片制造设备的依赖。据此前消息，南大光电 ArF 光刻胶已经通过专家组验收，可以用于 90nm~14nm 工艺。关于 7nm 工艺用的光刻胶，南大光电表示，目前只是小规模投产，相关生产线正在构建当中，存在较多的不确定性。
