光刻与曝光技术作为现代微纳制造领域中的核心工艺，正引领着电子制造行业的革新与发展。这一技术不仅实现了尺寸最小、精度最高的加工水平，还广泛应用于多个关键领域，成为电子产品制造不可或缺的一部分。
光刻技术，全称光学-化学反应刻蚀技术，利用光学反应和化学、物理刻蚀方法，在晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面精确构建微图形结构，如电路线路图。该技术流程复杂，包括预处理、涂胶、曝光、显影、蚀刻和去胺等多个环节，每一环节都相互影响、相互制约，其中曝光工序尤为重要，它直接决定了微图形结构及其产品的质量。
据ITBEAR了解，光刻技术的应用范围广泛，按照不同基材划分，可应用于集成电路(IC)、平板显示(FPD)、印制电路板(PCB)等多个领域，是这些领域产品制造过程中至关重要的工艺流程之一。特别是在PCB制造中，光刻的线宽精度要求极高，从普通PCB板的100μm到IC载板的5μm不等，尽管这比集成电路的精度要求略低，但仍然体现了光刻技术的高超水平。
PCB，即印制电路板，作为所有电子产品必备的电路载体，广泛应用于通讯电子、消费电子、计算机、汽车电子、工业控制、医疗器械、国防及航空航天等多个领域。PCB产业的发展水平，已成为衡量一个国家或地区电子信息产业发展速度与技术水平的重要指标。在当前5G网络建设、云技术、人工智能、工业4.0、物联网等快速发展的背景下，PCB行业更是成为整个电子产业链中承上启下的基础力量。
在PCB的生产过程中，曝光设备作为光刻技术的核心载体，扮演着至关重要的角色。它不仅决定着PCB产品电路线路图的质量，还影响着产品的整体性能，是PCB制造中的关键设备之一。曝光设备通过光刻技术完成PCB制造中的线路层、阻焊层和底片制作的曝光工序，主要功能是将设计的电路线路图形精确转移到PCB基板或底片上。在PCB制造领域，曝光设备常被称为曝光机、激光直接成像机、光刻机以及光绘机（主要用于线路层和阻焊层所需的底片制作）。
