【ITBEAR】9月9日消息，俄罗斯在半导体产业迈出重要步伐，不仅成功为服役长达35年的光刻机延长寿命，同时还在自研光刻机领域取得显著成果。这一进展显示出俄罗斯在全球高科技制裁环境下，依然能够保持强劲的发展势头。
据悉，俄罗斯企业巧妙地获取了ASML公司1990年代芯片制造机器的备件，使得PAS 5500系列光刻工具得以继续发挥作用。尽管这些设备已不再是ASML的生产线产品，但市场上尤其是中国地区存有的大量备件，为俄罗斯提供了重要的资源支持。俄罗斯进口商已成功引进至少170批备件，保障了光刻机的持续稳定运行。
值得一提的是，俄罗斯在自研光刻机方面同样取得了重要突破。据ITBEAR了解，俄罗斯首台自研光刻机已完成制造并进入测试阶段，这台设备能够生产出350纳米级别的芯片。尽管这一技术规格相较于国际先进水平仍有一定的差距，但在汽车、能源和电信等多个领域，这些芯片仍具有广阔的应用前景。
俄罗斯在半导体产业的发展规划上同样展现出了雄心壮志。该国已明确制定了一系列长远目标，包括在2026年实现65纳米芯片节点工艺，2027年达到28纳米本土芯片制造能力，并力争在2030年前掌握14纳米国产芯片的制造技术。这些目标的设定不仅彰显了俄罗斯在高科技领域的坚定决心，也预示着该国在全球半导体产业中的崛起之势。
总体来看，俄罗斯通过巧妙获取备件资源、自研光刻机成功以及明确的半导体产业发展规划，为其在高科技领域的发展注入了新的活力。这一系列举措无疑将对全球半导体产业格局产生深远的影响。
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