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三星2nm工艺陷困境,量产难上加难,德州晶圆厂人员撤离!

   时间:2024-09-12 16:13:53 来源:ITBEAR作者:冯璃月编辑:瑞雪 发表评论无障碍通道

【ITBEAR】9月12日消息,三星面临2纳米工艺良率挑战,量产计划被迫推迟至2026年。据媒体报道,这家韩国科技巨头在先进制程技术上遭遇重大阻碍,导致其原本计划的2024年底量产时间表无法实现。

三星位于美国得州泰勒的工厂,原本被寄予厚望成为4纳米及以下工艺的量产枢纽,然而,由于2纳米工艺的良率持续低迷,远不及竞争对手台积电的60%~70%水平,该工厂的未来显得充满挑战。特别值得关注的是,三星的全环绕栅极(GAA)工艺良率更是惨淡,仅在10%-20%之间徘徊,这无疑给其晶圆代工业务蒙上了阴影。

据ITBEAR了解,为了寻求突破,三星董事长李在镕近期频繁接触主要设备供应商,如ASML和蔡司等,希望能找到提升工艺和良率的解决方案。然而,截至目前,这些努力尚未能带来显著的改变。

业内专家指出,三星在晶圆代工领域的竞争力下滑,可能与其内部的管理问题息息相关。包括官僚主义、决策缓慢以及薪酬体系等在内的一系列问题,都被视为制约三星进一步发展的关键因素。此外,与过去相比,三星在投资时机上的把握也显得不够敏锐,这反映出管理层对当前市场动态的把握能力有待提升。

面对重重困境,三星已决定从泰勒工厂撤出大部分员工,仅保留必要的运营人员。这一举措或许能暂时缓解压力,但长远来看,如何从根本上解决良率问题,才是三星需要直面的真正挑战。

在全球半导体市场竞争日趋激烈的背景下,三星的这一系列动向无疑引发了业界的广泛关注。未来,三星能否成功突破技术瓶颈,重拾晶圆代工领域的领先地位,仍有待市场的进一步检验。

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