【ITBEAR】近日，理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司在知识产权领域取得了新突破。该公司成功获得了一项名为“一种真空腔内旋转台”的实用新型专利，该专利的申请日期追溯至今年2月，授权公告号为CN 221822325 U。
据悉，此专利主要应用于薄膜沉积技术，特别是半导体薄膜沉积设备中。其设计包括载台、中空旋转平台及磁流体传动轴，实现了真空环境下的物料旋转功能。该旋转台的特点在于其高效的密封性、易于维修、成本低廉，并能适应大负载及提高抗偏载能力。
ITBear旗下自媒体矩阵：
【ITBEAR】近日，理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司在知识产权领域取得了新突破。该公司成功获得了一项名为“一种真空腔内旋转台”的实用新型专利，该专利的申请日期追溯至今年2月，授权公告号为CN 221822325 U。
据悉，此专利主要应用于薄膜沉积技术，特别是半导体薄膜沉积设备中。其设计包括载台、中空旋转平台及磁流体传动轴，实现了真空环境下的物料旋转功能。该旋转台的特点在于其高效的密封性、易于维修、成本低廉，并能适应大负载及提高抗偏载能力。
