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ASML光刻机难以变身美控制全球芯片利器?

   时间:2024-10-30 14:53:40 来源:ITBEAR作者:沈瑾瑜编辑:瑞雪 发表评论无障碍通道

【ITBEAR】在全球半导体产业中,荷兰的ASML公司一直是EUV光刻机的重要供应商,但其决策似乎深受美国影响。美国通过控制ASML的光刻机出口,间接影响了全球芯片产业的格局。

然而,ASML的EUV光刻机正面临发展困境,技术提升愈发困难,价格高昂令人难以接受。同时,中国光刻机技术取得突破,离浸润式DUV光刻机仅一步之遥,一旦成功,美国将难以继续控制。

新技术的涌现也对光刻机地位构成挑战。佳能推出的NIL纳米压印技术、电子束光刻技术等,均有望在不依赖EUV光刻机的情况下制造先进芯片。

新封装技术、Chiplet小芯粒技术以及光电芯片、碳基芯片等的出现,也为提升芯片性能提供了新途径,进一步削弱了光刻机的重要性。

在此背景下,ASML的光刻机作为美国控制全球芯片产业的工具,其效力正逐渐减弱。

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