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1.8nm芯片困境?英特尔辟谣:10%良率为假,实际已达半数以上

   时间:2024-12-11 13:11:05 来源:ITBEAR编辑:瑞雪 发表评论无障碍通道

在半导体制造领域,良率问题始终是晶圆厂面临的最大挑战之一,特别是对于先进工艺而言。近期,三星与台积电、英特尔等巨头在这一问题上的遭遇,再次引发了业界广泛关注。

原本,三星在3nm芯片量产方面抢得了先机,比台积电提前了半年。然而,至今为止,三星仍未真正交付一颗3nm芯片给市场。包括苹果、高通、联发科和英伟达在内的多家科技巨头,均选择了与台积电合作,将3nm芯片订单交给了后者。这一选择背后的原因,正是三星的良率问题。据知情人士透露,三星的3nm芯片良率仅为20%左右,这意味着每生产10颗芯片,就有8颗是不合格的。

实际上,良率问题并非三星独有。台积电和英特尔在推进先进工艺时,也同样遭遇了良率的困扰。台积电在3nm芯片量产初期,良率也仅为40%左右,经过后续的技术改进,才逐渐提升至70%以上,从而赢得了市场的认可。而英特尔则更为尴尬,原本计划在今年实现20A(2nm)和18A(1.8nm)工艺的量产,以追赶甚至超越台积电和三星,但据报道,由于良率问题,其进度并不理想。

近日,有媒体爆料称,英特尔最新的18A制程良率仅为10%,即每生产10颗芯片,就有9颗是不合格的。这一消息对英特尔造成了巨大打击,导致其合作伙伴博通取消了订单,不再委托英特尔生产1.8nm芯片。据称,由于良率过低,英特尔原计划在明年量产18A工艺的目标可能无法实现。

面对这一困境,英特尔迅速展开了辟谣行动。知名分析师Patrick Moorhead和英特尔前CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)均在公开平台上表示,关于18A制程良率仅为10%的说法是不真实的。Patrick Moorhead指出,博通在芯片设计过程中没有使用最新的工具,而是采用了旧工具,这可能是导致良率较低的原因之一。而英特尔工程师则表示,目前18A制程的良率已经超过了50%,并且随着技术的不断改进,良率还将进一步提高。

这一系列事件引发了业界对于未来芯片工艺发展方向的深刻思考。随着芯片工艺的不断提升,良率问题日益突出,制造成本也水涨船高。那么,未来的芯片是否真的需要如此高的工艺呢?这一问题或许值得每一位从业者深思。

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